机译:射频反应磁控溅射制备透明掺杂T的ZnO薄膜
School of Physical Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou, 730000, PR China;
Tb-doped ZnO films; Semiconductors; RF reactive sputtering; Transparent conducting oxide;
机译:室温下制备的透明导电掺铝ZnO薄膜的高速率反应大功率脉冲磁控溅射
机译:在环境温度下制备的透明导电AL掺杂ZnO薄膜的高速反应性高功率脉冲磁控溅射
机译:非对称双极性脉冲直流反应磁控溅射制备Al掺杂ZnO透明导电薄膜的结构与性能
机译:通过射频磁控溅射制备的光伏应用透明导电ZnO薄膜
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:射频直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子输运和晶体学取向特征
机译:通过反应高功率脉冲磁控溅射均匀,高度透明和导电Al掺杂ZnO膜的室温沉积