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Fabrication Of A Porous Polyimide Membrane Using A Silicon Nanowire Array As A Template

机译:以硅纳米线阵列为模板制备多孔聚酰亚胺膜

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摘要

We demonstrate that a porous polyimide membrane can be fabricated by curing liquid polyimide on a vertically oriented silicon nanowire array and selectively etching away the nanowire-array-template using xenon difluoride (XeF_2). Pore size and density using the described technique are controllable. The former is dependent on nanowire diameter and the duration of etching, whereas pore density is determined by silicon nanowire density. We believe that the described porous membrane fabrication method can be applied to various polymer and nanowire systems.
机译:我们证明了可以通过在垂直取向的硅纳米线阵列上固化液体聚酰亚胺并使用二氟化氙(XeF_2)选择性蚀刻掉纳米线阵列模板来制造多孔聚酰亚胺膜。使用所述技术的孔尺寸和密度是可控制的。前者取决于纳米线直径和蚀刻持续时间,而孔密度由硅纳米线密度决定。我们相信,所描述的多孔膜制造方法可以应用于各种聚合物和纳米线系统。

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