Design and Analysis of Ti: LiNbO_31×2 Digital Optical Switch with Optimized Electrode Regions

Ghanshyam Singh; R. P. Yadav; Vijay Janyani

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Design and Analysis of Ti: LiNbO_31×2 Digital Optical Switch with Optimized Electrode Regions

机译：优化电极区域的Ti：LiNbO_31×2数字光开关的设计与分析

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A low loss, polarization and wavelength independent 1×2 digital optical switch (DOS) with a drive voltage of ±9V is presented here. A channel profile of Titanium indif-fused region on x-cut Lithium Niobate substrate is used to design the switch. Effects of various design parameters have been observed and plotted. The dopant thickness and electrode regions have been optimized to reduce on chip switch area (37.5mm × 0.04mm) and overall losses, which were limited to the range of 3% to 5% only with effective width of center electrode of 5 μm and a gap of 7 μm with side electrodes, thus improving the switch performance overall.

机译：这里介绍了一种低损耗，偏振和波长无关的1×2数字光开关（DOS），驱动电压为±9V。使用x切割铌酸锂衬底上的钛Indif融合区的通道轮廓来设计开关。已经观察到并绘制了各种设计参数的影响。对掺杂剂的厚度和电极区域进行了优化，以减少芯片上的开关面积（37.5mm×0.04mm）和总损耗，仅在中心电极的有效宽度为5μm且电极宽度为5％的情况下，这些损耗限制在3％至5％的范围内侧面电极之间的间隙为7μm，因此整体改善了开关性能。

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来源
《Journal of Optical Communications 》 |2010年第2期| P.78-80| 共3页
作者
Ghanshyam Singh; R. P. Yadav; Vijay Janyani;
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作者单位

Malaviya National Institute of Technology Jaipur-India Department of Electronics and Communication Engineering;

rnMalaviya National Institute of Technology Jaipur-India Department of Electronics and Communication Engineering;

rnMalaviya National Institute of Technology Jaipur-India Department of Electronics and Communication Engineering;

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收录信息美国《工程索引》(EI);
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