机译:通过二次曝光数字全息干涉技术记录CdS和ZnS薄膜的结构,形态,光学和全息图
Department of Biological and Environmental Science, Dongguk University;
Holography and Material Research Laboratory, Department of Physics, Shivaji University;
Jaysingpur College;
Holography and Material Research Laboratory, Department of Physics, Shivaji University;
机译:双曝光数字全息干涉法研究电沉积纳米结构Bi_2Te_3和Sb_2Te_3薄膜的表面变形。
机译:二次曝光全息干涉技术研究电沉积As_2S_3薄膜
机译:用于镁沉积薄膜的双曝光全息干涉技术
机译:Cd浓度对化学浴沉积(CD:Zn)薄膜的结构,形态学和光学性质的影响
机译:原位热退火工艺对脉冲激光沉积制造CDS Cdte薄膜太阳能电池结构,光学和电性能的影响
机译:电泳沉积技术合成的TiO2薄膜的结构形态和光学性质
机译:用简化喷涂技术制备未掺杂和纳米Zn掺杂Cds薄膜的结构,形态,光学和电学性质的研究