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机译:直流(DC)溅射双层钼薄膜的电,结构和形貌特性
Departamento de Ingeniería Eléctrica(SEES), Centro de Investigación y de Estudios Avanzados del Instituto Politécnico Nacional (CINVESTAV-IPN);
IMN;
Departamento de Ingeniería Eléctrica(SEES), Centro de Investigación y de Estudios Avanzados del Instituto Politécnico Nacional (CINVESTAV-IPN);
机译:直流磁控溅射沉积双层薄膜控制钼的物理和微观结构性能
机译:厚度比和溅射模式对双层钼薄膜结构,电和光学性质的影响
机译:直流磁控溅射非晶TiAl薄膜的电学和结构性能
机译:不同基材沉积RF溅射钼薄膜结构和电性能的研究
机译:研究磁控溅射生产的氧化锌基薄膜的结构,电,光和磁性能。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:厚度比和溅射模式对双层钼薄膜结构,电和光学性质的影响