机译:铝溅射和辐射对磁化靶材熔合等离子体的影响
Tech-X Corporation, 5621 Arapahoe Ave #A, Boulder, CO 80303, USA;
sputtering; radiation; magnetized target fusion; coronal model;
机译:使用脉冲气体工艺在惯性聚变靶上进行铝/氮化铝溅射沉积
机译:磁等离子体中铝微丸烧蚀过程中发射的线辐射的波动
机译:磁化等离子体靶,用于等离子体射流驱动的磁惯性融合
机译:检测和测量形成并压缩至磁化目标聚变条件的等离子体中杂质的方法
机译:同轴等离子体加速器作为磁化目标聚变的对撞驱动器的数值模型研究。
机译:磁控溅射聚合物靶材:从薄膜到非均质金属/等离子聚合物纳米颗粒
机译:射频环形磁化放电的空间结构 溅射等离子体采用两个面对的ZnO / al2O3圆柱靶 al掺杂ZnO薄膜的制备
机译:用于磁化目标融合的目标等离子体的产生和压缩