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机译:用于相变存储应用的Ge22 sub> Sb22 sub> Te56 sub>和Sb-过量Ge15 sub> Sb47 sub> Te38 sub>硫族化物薄膜的表征
Department of Electronics Engineering Dankook University San #29 Anseo-dong Cheonan-si Chungnam 330-714 Korea;
GST; electrical properties; set/reset process; nucleation;
机译:用于相变存储应用的Ge_(22)Sb_(22)Te_(56)和Sb-过量Ge_(15)Sb_(47)Te_(38)硫族化物薄膜的表征
机译:非晶态Ga5 sub> Ge15 sub> Te80 sub>硫族化物薄膜的转换现象
机译:硫族化物薄膜的有效热参数和相变存储器的仿真
机译:利用相变硫族化物的阈值开关特性的新型薄膜交叉点非易失性存储器
机译:用于铁电非易失性存储应用的铌酸锂薄膜的处理和表征。
机译:由硫族化物相变材料引起的具有薄膜共振的全息图像生成
机译:用于相变存储器应用的CVD生长的Ge-sb薄膜器件的沉积和表征