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Characterization of Ge22Sb22Te56 and Sb-Excess Ge15Sb47Te38 Chalcogenide Thin Films for Phase-Change Memory Applications

机译:用于相变存储应用的Ge22 Sb22 Te56 和Sb-过量Ge15 Sb47 Te38 硫族化物薄膜的表征

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摘要

A phase-change memory device that utilizes an antimony (Sb)-excess Ge15Sb47Te38 chalcogenide thin film was fabricated and its electrical properties were measured and compared with a similar device that uses Ge22Sb22Te56. The resulting electrical characteristics exhibited I reset values of 14 mA for Ge22Sb22Te56 and 10.6 mA for Ge15Sb47Te38. Also, the set operation time (t set) for the device using Ge15Sb47Te38 films was 140 ns, which was more than twice as fast as the Ge22Sb22Te56 device. The relationship between the microstructure and the improved electrical performance of the device was examined by means of transmission electron microscopy (TEM).
机译:制造了一种使用过量锑(Sb)的Ge15 Sb47 Te38 硫族化物薄膜的相变存储器件,并测量了其电性能,并将其与使用Ge22的类似器件进行了比较。 Sb22 Te56 。所产生的电学特性显示,Ge22 Sb22 Te56 的I reset 值为14 mA,Ge15 Sb47 Te38 的I reset值为10.6 mA。 。此外,使用Ge15 Sb47 Te38 膜的设备的设置操作时间(t set )为140 ns,是Ge22的两倍以上。 sub> Sb22 Te56 设备。借助于透射电子显微镜(TEM)检查了微结构与器件的改进电性能之间的关系。

著录项

  • 来源
    《Journal of Electronic Materials》 |2008年第4期|535-539|共5页
  • 作者

    Sang-Ouk Ryu;

  • 作者单位

    Department of Electronics Engineering Dankook University San #29 Anseo-dong Cheonan-si Chungnam 330-714 Korea;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    GST; electrical properties; set/reset process; nucleation;

    机译:GST;电性能;凝固/复位过程;成核;

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