机译:MOCVD法观察SrTiO_3(1 0 0)衬底上外延Pb(Zr_,Ti)O_3薄膜的初始生长阶段
A1. Atomic force microscopy; A3. Chemical vapor deposition processes; A3. Metalorganic chemical vapor deposition; B1. Oxides;
机译:SrRuO_3覆盖的全外延铁电(Bi,La)_4Ti_3O_(12)/ Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3 /(Bi,La)_4Ti_3O_(12)三层薄膜的生长,结构和性能SrTiO_3(011)基板
机译:通过脉冲激光沉积在SrTiO_3衬底上的全外延三层铁电体(Bi,La)_4Ti_3O_(12)/ Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3 /(Bi,La)_4Ti_3O_(12)薄膜
机译:低疲劳外延全(001)取向(Bi,La)_4Ti_3O_(12)/ Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6)O_3 /(Bi,La)_4Ti_3O_(12)三层薄膜的显微结构和铁电性能在(001)SrTiO_3基板上
机译:外延PBZR_(0.52)Ti_(0.48)O_3和BATIO_3在SRRUO_3 / SRTIO_3(100)底板上制备的BATIO_3薄膜的结构和铁电性能
机译:在氧化物和金属基底上异质外延氧化物薄膜的初始生长。
机译:(100)/(001)取向四方外延Pb(Zr0.4Ti0.6)O3薄膜在电场作用下超快90°域转换的原位观察
机译:纳米片控制玻璃基板上PbZr0.52Ti0.48O3薄膜的外延生长
机译:外延YBa2Cu3O(7-x)薄膜:扫描隧道显微镜研究外延生长的初始阶段,生长机制和衬底温度的影响。