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机译:通过液相外延对生长在GaSb图案化衬底上的空心金字塔结构GaSb外延层进行缺陷过滤
Research Institute of Electronics, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Hamamatsu, Shiznoka 432-8011, Japan;
A1. delects; A3. liquid phase epitaxy; A3. selective epitaxy; B1. antimonides; B2. semiconducting gallium compounds;
机译:Te杂质对液相外延生长在GaSb(001)衬底上的GaSb外延层形貌的影响
机译:液相外延技术研究在不同衬底上生长的GaSb薄膜上的结构缺陷
机译:金属有机气相外延生长的GaAs上GaSb岛的形貌和缺陷结构
机译:通过AL_(0.09)在GaAs(001)底物上生长的INSB量子孔中的结构缺陷(0.09)IN_(0.91)SB / GASB-ALSB应变层超晶格/ ALSB / GASB缓冲层
机译:减少在GaAs底物上生长在GaAs底物上的喘气脱位,用于光伏和蒸煮器应用
机译:卤化物气相外延在锥形截肢型蓝宝石衬底上生长的α-GA2O3癫痫脱位的减少
机译:GaSb(100)图案化衬底上生长的空心金字塔形GaSb外延层的液相外延缺陷过滤
机译:衬底取向对金属有机气相外延生长Gasb生长速率,表面形貌和硅掺入的影响