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机译:低压溅射钨膜的内应力和电阻率
机译:射频溅射沉积钨薄膜的微观结构,生长,电阻率和应力
机译:沉积条件对反应溅射氮化钨膜内部应力和微观结构的影响
机译:溅射沉积SrZrO_3:Cr存储膜中低电阻状态的电阻开关特性和设定电压依赖性
机译:RF&DC溅射沉积的氮化钨薄膜的高电阻率特性
机译:硅晶片上溅射的硅化钨/硅多层薄膜的原位曲率和应力分析。
机译:厚度和溅射压力对定向柱状钨薄膜电阻率和弹性波传播的影响
机译:表面处理层中的特殊问题/内部应力。溅射沉积的薄膜内应力。
机译:溅射Be和BeB薄膜的内应力和表面粗糙度研究