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Fixed points for pressure calibration above 100 kbars related to semiconductor‐metal transitions

机译:与半导体-金属过渡有关的高于100 kbars的压力校准固定点

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摘要

Pressures assigned to the semiconductor‐metal transitions in ZnTe, ZnS, GaAs, and GaP have been determined by detecting the electrical resistance change of the semiconductors while the lattice parameter of standard material NaCl was simultaneously measured with x‐ray diffraction techniques. A pressure vessel of the split‐octahedron type and various pressure‐transmitting media have been employed. Pressures were estimated according to the equation of state for NaCl proposed by Decker. The transition pressures, 1296 kbars for ZnTe, 1557 kbars for ZnS, 1888 kbars for GaAs, and 25310 kbars for GaP, constitute fixed points for pressure calibration above 100 kbars at room temperature.
机译:通过检测半导体的电阻变化,可以确定分配给ZnTe,ZnS,GaAs和GaP中的半导体-金属转变的压力,同时使用X射线衍射技术同时测量标准材料NaCl的晶格参数。使用了分体八面体类型的压力容器和各种压力传输介质。根据Decker提出的NaCl状态方程估算压力。过渡压力,ZnTe为1296 kbar,ZnS为1557 kbar,GaAs为1888 kbar,GaP为25310 kbar,构成了室温下高于100 kbar的压力校准的固定点。

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  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |1980年第5期| P.2581-2585| 共5页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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