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机译:F +,CFn +(n = 1,2,3)离子轰击产生的化学溅射硅产量
机译:氧增强溅射离子产率的定量研究。 I.用O-2溢流对硅表面进行氩离子轰击
机译:H_2O冰的离子轰击引起的溅射产率,溅射粒子质量光谱和光发射的测量
机译:氢同位素轰击石墨:化学溅射产率的能量依赖性模型
机译:低能氙离子轰击下氮化硼溅射产率的计算
机译:金刚石薄膜在电推进中的应用:低能量溅射产率测量和MPD等离子体辅助化学气相沉积。
机译:水冰的C60和Au3轰击的溅射产率与入射动能的关系
机译:离子轰击下有机聚合物溅射产率溅射产量的基材温度依赖性的分子动力学模拟研究
机译:氙离子轰击(预印)对氮化硼低能溅射产率的初步结果;技术论文