机译:反铁磁耦合强度对12英寸TiN电极上垂直磁隧道结中[Co / Pd]
MRAM Center, Department of Electronics, Hanyang University, Seoul 133-791, South Korea;
机译:在12英寸TiN电极晶片上制造的垂直磁隧道结中,反铁磁耦合强度对[Co / Pd] _n合成反铁磁层Ru间隔层厚度的依赖性
机译:<![CDATA [PB的多体和磁电特性
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