...
机译:氙轰击对钌涂层掠入射入射收集器镜寿命的影响,用于极端紫外光刻
机译:极紫外光刻的掠入射收集器的光学设计
机译:参与ceLL和蒙特卡洛研究的极端紫外光刻中等离子体引起的垂直入射收集器光学器件的等离子体损伤
机译:用于测量极端紫外线范围内放牧入射镜反射光谱的单通道方法
机译:快速SN离子轰击对胶印胶凝射线收集器镜反射率的影响 - (PPT)
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:多镜自适应光学器件,用于控制极端紫外光刻中的热像差
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。