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机译:回应“关于'扩大金属氧化物半导体导纳特性的评论:测量,来源及其对界面态密度分析的影响” [J.应用物理112,076101]
SUPA, School of Physics and Astronomy, University of Glasgow, Glasgow G12 8QQ, United Kingdom;
SUPA, School of Physics and Astronomy, University of Glasgow, Glasgow G12 8QQ, United Kingdom;
机译:评述“金属氧化物半导体导纳特性的拓宽:测量,来源及其对界面态密度分析的影响” [J.应用物理110,114115(2011)]
机译:金属氧化物半导体导纳特性的拓宽:测量,来源及其对界面态密度分析的影响
机译:响应“关于'磁场梯度对圆柱形霍尔离子源中离子束电流的影响'的评论” [J.应用物理104,066102(2008)]
机译:Ⅲ-ⅤMOS电容器的界面陷阱密度和导纳特性
机译:对关于由3D计算机计划系统执行的独立监视单元计算的确证的评论 J.应用临床中物理2102(2001)
机译:响应铁磁/反铁磁性双层交换偏置厚度和角度依赖性的“评论”J。苹果。物理。 92,1009(2002)和“交换偏压的厚度依赖性和矫顽力与反铁磁层的铁磁层”J.苹果。物理。 94,2529(2003)“