...
机译:CH_4 / H_2 / N_2等离子体金刚石薄膜的微观结构演变及其增强的电性能
Department of Materials Science and Engineering, National Tsing Hua University, Hsinchu 300, Taiwan;
Department of Materials Science and Engineering, National Tsing Hua University, Hsinchu 300, Taiwan;
Department of Physics, Tamkang University, Tamsui 251, Taiwan;
机译:微波测量CH_4 / H_2 / N_2等离子体增强化学气相沉积过程中氮掺杂金刚石薄膜的椭偏研究
机译:CH_4 / H_2 RF等离子体的电和光学性质,用于类金刚石薄膜沉积
机译:使用高功率和CH_4 / H_2 / N_2 / O_2等离子体高速率生长纳米晶金刚石薄膜的新机制
机译:N_2在CH_4 / AR等离子体中对超混晶金刚石薄膜微观结构和电化学性能的影响
机译:沉积在微波等离子体盘反应器中的多晶金刚石薄膜的电学性质和物理特性。
机译:通过等离子体增强原子层沉积制备的硅氧氮薄膜的微结构化学光学和电学性质的测量
机译:微波测量CH_4 / H_2 / N_2等离子体增强化学气相沉积过程中氮掺杂金刚石薄膜的椭偏研究