首页> 外文期刊>Journal of the American Ceramic Society >Transference Numbers for In-Plane Carrier Conduction in Thin Film Nanostructured Gadolinia-Doped Ceria Under Varying Oxygen Partial Pressure
【24h】

Transference Numbers for In-Plane Carrier Conduction in Thin Film Nanostructured Gadolinia-Doped Ceria Under Varying Oxygen Partial Pressure

机译:氧气分压变化时薄膜纳米结构掺杂Ga的二氧化铈中平面内载流子传导的传输数

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

We demonstrate a modified Hebb-Wagner approach to quantitatively estimate transference numbers for carrier conduction in thin film oxide conductors using blocking electrodes in an in-plane geometry. We report ionic transference numbers, t_i, for gadolinia-doped ceria (GDC) thin films, a model mixed ion-electron conductor, at 973K and oxygen partial pressure ranging from 0.21 atm down to approximately 10~(22) atm. Our results indicate that GDC reaches the electrolytic regime (t_i = 0.5) at an oxygen partial pressure of 5 × 10~(-19) atm at 973K. This approach may be useful for understanding carrier transport mechanisms in low-dimensional oxide heterostructures with specific relevance to nanostructured energy materials.
机译:我们展示了一种改良的Hebb-Wagner方法,用于使用平面内几何形状中的阻塞电极来定量估计薄膜氧化物导体中载流子传导的转移数。我们报告了氧化g掺杂二氧化铈(GDC)薄膜(一种模型混合离子电子导体)在973K和氧分压范围从0.21 atm降至大约10〜(22)atm时的离子转移数t_i。我们的结果表明,GDC在973K的氧分压为5×10〜(-19)atm时达到了电解状态(t_i = 0.5)。该方法对于理解低维氧化物异质结构中的载流子传输机制可能是有用的,该异质结构与纳米结构化的能量材料特别相关。

著录项

  • 来源
    《Journal of the American Ceramic Society》 |2009年第10期|2400-2403|共4页
  • 作者单位

    Harvard School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, Massachusetts 02138;

    Harvard School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, Massachusetts 02138;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 13:41:57

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号