机译:厚度对磁控溅射制备的Er2O3氢同位素渗透阻挡层渗透减少因子的影响
Univ Sci & Technol Beijing, Inst Adv Mat & Technol, Beijing 100083, Peoples R China;
Univ Sci & Technol Beijing, Inst Adv Mat & Technol, Beijing 100083, Peoples R China;
Univ Sci & Technol Beijing, Inst Adv Mat & Technol, Beijing 100083, Peoples R China;
China Acad Engn Phys, POB 919-71, Mianyang 621907, Sichuan, Peoples R China;
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Univ Sci & Technol Beijing, Inst Adv Mat & Technol, Beijing 100083, Peoples R China;
Er2O3-HIPB; Hydrogen energy; Deuterium invasion; Coating crack;
机译:Al2O3-氢同位素透过障碍物透过减少因子的影响因素研究
机译:射频磁控溅射制备的Er2O3 / SiC多层膜的界面结构和氘渗透性能
机译:新型纳米结晶ER2O3液体同位素渗透屏障
机译:使用可旋转的双磁控溅射系统卷对卷沉积渗透阻挡层
机译:磁控溅射金属涂层到弹性体基材上,以降低燃料渗透率。
机译:SiNx扩散阻挡层厚度对溶胶-凝胶浸涂和反应磁控溅射获得的TiO2薄膜的结构性能和光催化活性的影响
机译:Er2O3 mOD涂层氢渗透阻隔性能研究
机译:自更新涂层在改进真空材料,氢渗透阻挡层和抗溅射材料中的应用