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Full-Band Monte Carlo Device Simulation of a Si/SiGe-HBT with a Realistic Ge Profile

机译:具有逼真的Ge轮廓的Si / SiGe-HBT的全频带Monte Carlo器件仿真

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摘要

This work presents the first comprehensive full- band Monte Carlo model for the simulation of silicon/silicon- germanium devices with arbitrary germanium profiles. The model includes a new CPU and memory efficient method for the discretization of the Brillouin zone based on adaptive nonuniform tetrahedral grids and a very efficient method for transfers through heterointerfaces in the case of irregular k-space grids.
机译:这项工作提出了第一个全面的全频带蒙特卡洛模型,用于模拟具有任意锗分布的硅/硅锗器件。该模型包括基于自适应非均匀四面体网格的布里渊区离散化的新CPU和内存高效方法,以及在不规则k空间网格情况下通过异质接口传输的非常有效的方法。

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