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A High-sensitivity Broadband Image Sensor using CuInGaSe_2 Thin Films

机译:使用CuInGaSe_2薄膜的高灵敏度宽带图像传感器

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摘要

We have fabricated a novel CMOS image sensor using polycrystalline CuInGaSe_2 (CIGS) thin films as an absorber layer, which outperforms conventional crystalline Si (c-Si) CMOS image sensors regarding higher external quantum efficiency(EQE) and wider spectral sensitive range. Development of this image sensor has been realized due to dark current suppression by the combination of micro fabrication processes of LSI and solar cell fabrication technologies. The newly developed CIGS image sensors were capable to capture night scenes. Image sensors with 352 (H) ×288 (V) pixels (CIF), and 640 (H) × 480 (V) pixels (VGA) with each pixel size of 10μm × 10μm, have been fabricated.%我々は次世代太陽電池材料として優れた性能を持つ化合物半導体CuInGaSe2(CIGS)薄膜を使った新しいCMOSイメージセンサを開発した。このイメージセンサは量子効率及び感応波長帯域という観点から通常のSi CMOSイメージセンサよりも優れた特性を示す。これまで暗電流が大きい等の問題からCIGSのイメージセンサへの応用は困難と考えられてきた。我々は、CIGS薄膜形成技術を始めとする太陽電池技術と微細加工技術などのLSI技術を融合することにより、イメージセンサ実現に至った。本イメージセンサは有効画素数352×288画素(約10万画素)及び640×480画素(30万画素)で画素ピッチ10μm、400~1300nmの広帯域で高い感度を持っている。
机译:我们使用CuInGaSe_2(CIGS)薄膜作为吸收层制造了新颖的CMOS图像传感器,在更高的外部量子效率(EQE)和更宽的光谱敏感范围方面,它优于常规的晶体Si(c-Si)CMOS图像传感器。该图像传感器是通过LSI的微细加工工艺和太阳能电池制造技术相结合来抑制暗电流而实现的。新开发的CIGS图像传感器能够捕获夜景。图像传感器为352(H)×288(V) )(CIF)像素和640(H)×480(V)像素(VGA)的像素尺寸分别为10μm×10μm。%我们是一种化合物半导体CuInGaSe2,具有出色的性能,可作为下一代太阳能电池材料。我们已经开发出一种使用(CIGS)薄膜的新型CMOS图像传感器。就量子效率和敏感波长带而言,此图像传感器具有比常规Si CMOS图像传感器更好的特性。到目前为止,由于暗电流大等问题,人们一直认为将CIGS应用于图像传感器比较困难。我们通过融合太阳能电池技术(包括CIGS薄膜形成技术)和LSI技术(例如微细加工技术)来实现图像传感器。该图像传感器具有352 x 288有效像素(约100,000像素)和640 x 480像素(300,000像素),像素间距为10μm,并且在400至1300 nm的宽带中具有高灵敏度。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2009年第407期|p.13-16|共4页
  • 作者单位

    Composite Devices Development Team, Rohm Corporation Limited, 21 Mizosaki-cho Saiin, Kyoto 615-8585, Japan;

    Composite Devices Development Team, Rohm Corporation Limited, 21 Mizosaki-cho Saiin, Kyoto 615-8585, Japan;

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    Composite Devices Development Team, Rohm Corporation Limited, 21 Mizosaki-cho Saiin, Kyoto 615-8585, Japan;

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    Composite Devices Development Team, Rohm Corporation Limited, 21 Mizosaki-cho Saiin, Kyoto 615-8585, Japan;

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    National Institute of Advanced Industrial Science & Technology, Japan;

    National Institute of Advanced Industrial Science & Technology, Japan;

    National Institute of Advanced Industrial Science & Technology, Japan;

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  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    photodiode; image sensor; CIGS; dark current;

    机译:光电二极管图像传感器;CIGS;暗电流;
  • 入库时间 2022-08-18 00:35:07

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