机译:双二乙氨基硅烷与羟基化Si(001)表面相互作用用于SiO_2薄膜生长的密度泛函理论
Department of Materials Engineering, Korea University of Technology and Education 1800 Chungjeollo, Byungchun-myeon, Cheonan, Chungnam, +82-41-560-1326, Korea;
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机译:密度泛函理论研究双二乙基氨基硅烷与羟基化Si(001)表面相互作用,用于SiO_2薄膜生长
机译:双二乙氨基硅烷与羟基化Si(001)表面相互作用用于SiO_2薄膜生长的密度泛函理论
机译:用密度泛函理论研究二乙氨基硅烷与羟基化Si(001)表面的相互作用,用于SiO_2薄膜的生长
机译:乙烯,氢氧化物离子和二氧化钛锐钛矿(001)之间的表面相互作用:第一原理密度函数理论研究
机译:单壁碳纳米管原子力显微镜的多尺度模拟以及功能化和非功能化硅表面的密度泛函理论表征。
机译:密度泛函理论的成核研究-Al2O3(001)表面上Ptn团簇的生长和生长
机译:乙烯,氢氧化物离子和二氧化钛锐钛矿(001)之间的表面相互作用:第一原理密度函数理论研究