首页> 外文期刊>電子情報通信学会技術研究報告 >8TDP-SRAMセルのライトディスターブ特性を改善するビット線イコライズ回路を備えた28nm DP-SRAM
【24h】

8TDP-SRAMセルのライトディスターブ特性を改善するビット線イコライズ回路を備えた28nm DP-SRAM

机译:具有位线均衡电路的28nm DP-SRAM,可改善8TDP-SRAM单元的写干扰特性

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

We propose circuit techniques for an 8T dual-port (DP) SRAM to improve its minimum operating voltage (Vddmin). Active bitline equalizing technique improves the write margin whenever a write-disturb occurs. This technique is applicable for both synchronous and asynchronous clock frequencies between ports. We designed and fabricated a 256 kb DP-SRAM macro using 28-nm low-power CMOS technology and achieved low-voltage operation at 0.66 V and 1.4 ns write access time at 25℃, which are 120 mV lower and 40% faster than the conventional performance.%8TデュアルポートSRAMセルのライトディスタープ状態での勤件下限電圧を改善する回路手法を提案する.提案するアクティブビット線イコライズ手法はライトディスタープ状態でのデュアルポートSRAMセルの書き込みマージンを改善する.また提案手法はデュアルポートSRAMの両ポートが非同期動作しても適用することができる.28nmCMOSテクノロジを用いて,256kb容量のデュアルポートSRAMマクロを試作し,25℃の温度条件でライトアクセスタイム1.4nsおよび0.66Vでの動作を確認した.これは従来回路と比較してライトアクセスタイムで40%の高速化,120mVの動作下限電圧の改善となる.
机译:我们为8T双端口(DP)SRAM提出了电路技术,以改善其最小工作电压(Vddmin)。有源位线均衡技术可在发生写扰时提高写余量,该技术适用于同步和异步时钟频率我们使用28 nm低功耗CMOS技术设计和制造了一个256 kb DP-SRAM宏,并在0.66 V电压下实现了低压操作,在25°C时实现了1.4 ns的写访问时间,这比后者低了120 mV,占40%我们提出了一种电路方法,以改善%T双端口SRAM单元在写扰动状态下的工作下限电压,提出的有源位线均衡方法是双端口SRAM单元在写扰动状态下。即使双端口SRAM的两个端口都异步运行,该方法也可以应用,采用28nm CMOS技术,我们设计了容量为256kb,温度为25℃的双端口SRAM宏原型。在这种情况下,我们确认了在1.4ns和0.66V的写访问时间下的操作。与传统电路相比,它的写入访问时间快40%,工作电压限制低120mV。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号