机译:确定高N_s区Ge p和n-MOSFET迁移率并通过原子平坦的GeO_x / Ge界面提高迁移率的物理机制
School of Engineering, The University of Tokyo 2-11-16Yayoi, Bunkyo-ku,Tokyo 113-8656, Japan;
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机译:确定高N_s区Ge p和n-MOSFET迁移率并通过原子平坦的GeO_x / Ge界面提高迁移率的物理机制
机译:等离子体后氧化法制备具有GeO x sub> / Ge MOS接口的Ge p-和n-MOSFET高正场迁移率的物理原因
机译:高迁移率Ge N-MOSFET和迁移率降低机制
机译:确定高Ns区Ge p和n-MOSFET迁移率的物理机制以及原子平面GeOx / Ge界面的迁移率提高
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机译:性测定区域Y染色体相关的高流动性 - 组10癌症:潜在的治疗目标
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