机译:分流电弧放电制备氮化碳膜制备含氮碳等离子体
Iwate University 4-3-5, Ueda, Morioka 020-8551;
arc discharge; shunting arc; hybrid plasma; plasma-based ion implantation; carbon nitride thin film;
机译:利用分流电弧放电制备含氮碳等离子体用于制备氮化碳膜
机译:分流电弧放电制备混合膜沉积含钛碳等离子体
机译:脉冲阴极电弧放电等离子体沉积的准非晶碳和氮化碳膜
机译:生产含氮碳等离子体,用于氮化物膜制备的分流电弧放电
机译:低电流滑动电弧等离子体放电在硫化氢分解及二氧化碳减排中的应用
机译:光敏抗菌石墨氮化碳(g-C3N4)膜的制备和表征
机译:生产含氮碳等离子体,用于氮化物膜制备的分流电弧放电