Messung und Bestimmung wichtiger Gr??en und Indikatoren bei galvanischen Prozessen

摘要

Die Bestimmung von verschiedenen Parametern wie Schichtdicke und Glanz oder Rauheit von galvanischen Schichten wird in aller Regel nach erfolgter Abscheidung vorgenommen. Mit einem neuen Messsystem ist es m?glich, solche Kenngr??en einer galvanischen Schicht w?hrend der Abscheidung zu erfassen und damit auch eine wesentlich bessere Kontrolle sowie eine Anpassung der Abscheidung vorzunehmen. Die Technik beruht auf dem Einsatz der optischen Reflexionsmessung mit polychromatischem Licht mit einem Miniaturspektrometer. Erprobt wurde das System zur Bestimmung des Glanzes, der Schichtdicke, der Korngr??e und Kornwachstumsgeschwindigkeit der Metallschicht, der Zusammensetzung des Elektrolyten sowie der Energiebilanz bei der Abscheidung.%The determination of various parameters such as deposit thickness, brightness or gloss, or surface roughness of electrodeposited coatings is routinely carried out after their deposition. Using a novel measurement system, it is now possible to determine these parameters not after, but during the deposition process, thereby affording considerable improvements in process control and ensuring the deposited coating will conform to specification. The basis of this technology involves reflectance measurements using polychromatic light, and a miniature spectrometer. In one trial of the system, deposit brightness and thickness, grain size and rate of grain growth were followed, as well as electrolyte composition and energy balance during the deposition process.