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Amorphous silicon/amorphous silicon carbide heterojunctions applied to memory device structures

机译:应用于存储器件结构的非晶硅/非晶碳化硅异质结

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摘要

It has been proposed and experimentally confirmed that band-engineered hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H)/hydrogenated amorphous silicon carbide (a-SiC:H) heterojunctions on c-Si can be applied to electrically programmable and erasable memory devices. A test diode with the structure c-Si/graded a-SiC:H/a-Si:H/uniform a-SiC:H/Al exhibits a large hysteresis in the C-V characteristic with a retention time of 0.8 s at room temperature.
机译:已经提出并通过实验证实,c-Si上的带设计的氢化非晶硅(a-Si:H)/氢化非晶碳化硅(a-SiC:H)异质结可以应用于电可编程和可擦除存储器件。具有c-Si /渐变a-SiC:H / a-Si:H /均匀a-SiC:H / Al结构的测试二极管在C-V特性中表现出较大的磁滞现象,在室温下的保持时间为0.8 s。

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