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Improvement of electroluminescence characteristics of porous silicon LED by using amorphous silicon layers

机译:通过使用非晶硅层改善多孔硅LED的电致发光特性

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摘要

Amorphous silicon (a-Si:H) layers are used to improve the injection current density J and threshold voltage V/sub th/ of porous silicon light emitting diodes (PS-LEDs). A PS-LED with n-i-n-p-n a-Si:H layers is shown to have a substantially (<6 orders of magnitude) higher J than that of the PS-LED without any a-Si:H layers. In addition, a lower V/sub th/ of 4.2 V and a higher brightness B of: 20.5 cd/m/sup 2/ at J=600 mA/cm/sup 2/ are achieved as compared to other PS-LEDs with n-i-p-n a-Si:H layers.
机译:非晶硅(a-Si:H)层用于提高多孔硅发光二极管(PS-LED)的注入电流密度J和阈值电压V / subth /。显示具有n-i-n-p-n a-Si:H层的PS-LED的J比没有任何a-Si:H层的PS-LED的J高很多(<6个数量级)。此外,与其他带有nipn的PS-LED相比,在J = 600 mA / cm / sup 2 /时,可实现4.2 V的更低V / subth /和20.5 cd / m / sup 2 /的更高亮度B。 a-Si:H层。

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