電子ビーム露光装置「F3000」

摘要

当社は，電子ビーム露光装置「F3000」を発表した。F3000は300mmφウェハに対応，65nmルールのLSI製作に対応できる解像度や精度を持つ。システムLSIは，多品種少量化が進み開発費負担の低減と，開発TATの短縮が求められている。F3000は，これらの問題に対応できる有効な露光装置である。