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机译:Na-Doping的临界增加有助于在ZnO散装晶体中产生〜180?MeV浅洞传导的受体带运动
机译:脉冲激光沉积生长的ZnO中的缺陷的电子特性,其导带以下300和370 meV
机译:(P,N)双受主掺杂对ZnO薄膜带隙和p型导电行为的影响
机译:通过对p-Cu_2ZnSnS_4单晶的变程跳跃传导的研究,受体带的特征和局部载流子的性质
机译:脉冲激光沉积生长的ZnO中的缺陷的电子特性,其导电带以下的水平为300和370 meV
机译:Na掺杂的急剧增加促进了受体带的移动从而在ZnO块状晶体中产生了约180 meV的浅空穴传导
机译:脉冲激光沉积生长ZnO中缺陷的电子特性,其电平低于导带300和370 meV
机译:在非结晶和多晶固体中He离子的接近表面产率提高180 / sup 0 /弹性散射。 [0。 8至1. 6 meV]