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Voltammetric and rotating ring-disk studies of the influence of anions in the underpotential deposition of zinc on platinum

机译:伏安法和旋转环盘研究阴离子对锌在铂上的欠电位沉积的影响

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摘要

A deposi??o em regime de subtens?o de Zn sobre Pt policristalina foi estudada em três diferentes solu??es ácidas para diferentes concentra??es de Zn2+. As cargas voltamétricas e a inibi??o, promovida pelo recobrimento máximo da superfície com Zn ads, na adsor??o e na rea??o de desprendimento de hidrogênio foram usados para se postular modelos de adsor??o. A co-adsor??o dos anions HSO4-, ClO4- e F-, tanto sobre o substrato de Pt como sobre os ad-átomos, exercem um papel muito importante na natureza da camada adsorvida. Sobre Pt, a carga máxima de redissolu??o do Zn ads encontrada foi aproximadamente 210 miC cm-2, exceto para o meio de fluoreto com Zn2+ 10-3 mol L-1, onde se encontrou um valor de aproximadamente 350 miC cm-2. Uma pequena inibi??o na rea??o de desprendimento de hidrogênio foi observada em ácido sulfúrico e perclórico, mas uma intensa inibi??o foi constatada em meio de ácido fluorídrico. Estes resultados foram associados com a intera??o dos volumosos oxi-anions tanto com os ad-átomos como com o substrato. Finalmente, experimentos de cole??o com o eletrodo rotatório de disco-anel foram feitos em meio de HF e os resultados confirmaram a carga máxima obtida dos voltamogramas. Os experimentos feitos com o eletrodo rotatório confirmaram que os picos voltamétricos analisados s?o relacionados com a deposi??o em subtens?o do Zn.
机译:在三种不同酸溶液中,针对不同浓度的Zn2 +,研究了多晶Pt上Zn的陈述不足状态下的沉积。吸附和氢释放反应中的伏安负载和最大吸附量(由Zn吸附剂最大覆盖表面)促进了吸附模型的建立。 HSO4-,ClO4-和F-阴离子在Pt基质和ad原子上的共吸附在吸附层的性质中起着非常重要的作用。在Pt上,发现的Zn广告的最大再溶解电荷约为210 miC cm-2,除了含Zn2 + 10-3 mol L-1的氟化物介质,其值约为350 miC cm-二。在硫酸和高氯酸中观察到少量的氢释放反应抑制作用,但在氢氟酸介质中观察到强烈抑制作用。这些结果与笨重的氧阴离子与ad原子和底物的相互作用有关。最后,在HF介质中进行了旋转圆盘环电极的收集实验,结果证实了从伏安图获得的最大电荷。用旋转电极进行的实验证实,分析的伏安峰与Zn底色中的沉积有关。

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