Estudio Del Comportamiento De Los Contactos Eléctricos De Al Y Ag Y Su Correlación Con La Conductividad Eléctrica En Películas Delgadas De CU3BiS3

摘要

Se presenta un estudio de las propiedades del aluminio (Al) y la plata (Ag) usados como contacto eléctrico sobre películas de Cu3BiS3. Los contactos eléctricos con configuración coplanar fueron depositados por el método de Sputtering D.C. de magnetrón. Se realiza un análisis detallado del comportamiento óhmico de cada uno de los metales y se presenta una correlación con las propiedades eléctricas del Cu3BiS3. Las películas delgadas de Cu3BiS3 fueron sintetizadas por evaporación de las especies precursoras de Cu y Bi en atmósfera de azufre (sulfurización) sobre sustratos de vidrio tipo Soda-Lime a una temperatura de 300 ºC, mediante un proceso que incluye dos etapas. A partir de medidas de conductividad realizadas en un amplio rango de temperaturas (100 K T 380 K) se observó un comportamiento lineal para la región de altas temperaturas por encima de T ambiente. La energía de activación fue obtenida a partir de la relación de Arrhenius. A study on the properties of aluminum (Al) and silver (Ag) is presented using them as electric contact on Cu3BiS3 thin films. A detailed analysis is developed on the ohmic behavior of each metal and a corelation is presented between the electrical properties on Cu3BiS3 from conductive measures; a linear behavior was observed for the high temperature regions above T environment. Activation energy was obtained from the Arrhenius relation.