Desenvolvimento e avalia?§?￡o de uma fonte DC de alta tens?￡o para utiliza?§?￡o em sistema de deposi?§?￡o de filmes finos por pulveriza?§?￡o cat?3dica

摘要

O trabalho em quest?￡o est?? relacionado ao projeto e constru?§?￡o de uma fonte de alta tens?￡o em corrente cont?-nua utilizando materiais e dispositivos adquiridos no com??rcio local visando sua aplica?§?￡o no processo de pulveriza?§?￡o cat?3dica. Essa t??cnica permite a deposi?§?￡o de filmes finos de metais, ?3xidos e nitretos sobre substratos s?3lidos. Como teste de funcionamento e aplica?§?￡o da fonte DC, com a mesma instalada em canh?￡o de pulveriza?§?￡o em alto v??cuo, filmes finos de diferentes espessuras de cobre, a?§o inoxid??vel 304 e tungst?anio foram depositados e estudados. An??lise de espessura, morfologia, e resist?ancia el??trica e resistividade foram conduzidas. Filmes com resistividade el??trica dependente das espessuras foram obtidos. A fonte DC se mostrou confi??vel em opera?§?￡o e permite a deposi?§?￡o de uma infinidade de materiais nas mais diferentes espessuras sobre v??rios tipos de substratos.