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Low contact resistance in epitaxial graphene devices for quantum metrology

机译:用于量子计量的外延石墨烯器件中的低接触电阻

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摘要

We investigate Ti/Au contacts to monolayer epitaxial graphene on SiC (0001) for applications in quantum resistance metrology. Using three-terminal measurements in the quantum Hall regime we observed variations in contact resistances ranging from a minimal value of 0.6 Ω up to 11 kΩ. We identify a major source of high-resistance contacts to be due bilayer graphene interruptions to the quantum Hall current, whilst discarding the effects of interface cleanliness and contact geometry for our fabricated devices. Moreover, we experimentally demonstrate methods to improve the reproducibility of low resistance contacts (<10 Ω) suitable for high precision quantum resistance metrology.
机译:我们研究Ti / Au接触到SiC(0001)上的单层外延石墨烯在量子电阻计量学中的应用。在量子霍尔状态下使用三端测量,我们观察到接触电阻的变化范围从最小的0.6Ω到最大的11kΩ。我们确定了高电阻触点的主要来源是由于双层石墨烯对量子霍尔电流的干扰,同时为制造的器件舍弃了界面清洁度和触点几何形状的影响。此外,我们通过实验证明了可改善适用于高精度量子电阻计量学的低电阻触点(<10Ω)的重现性的方法。

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