ПОВЫШЕНИЕ СТАБИЛЬНОСТИ СПЕКТРАЛЬНОЙ ГРАНИЦЫ ПРОПУСКАНИЯ УФ-ФИЛЬТРА ПРИ НАНЕСЕНИИ ПЛЕНОК ОКСИДА ГАФНИЯ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ

摘要

Приведены основные сведения об особенностях изготовления интерференционных покрытий для ультрафиолетовой области спектра на основе оксида гафния П (HfO_2) с использованием ионного ассистирования. Показана зависимость свойств тонких пленок HfO_2 от условий нанесения пленки, т.е. от скорости конденсации, давления в вакуумной камере, температуры подложки и параметров источника ионного ассистирования. Приведены данные о сдвиге спектральной характеристики пленок HfO_2 под воздействием влаги.