ПОВЫШЕНИЕ СТАБИЛЬНОСТИ СПЕКТРАЛЬНОЙ ГРАНИЦЫ ПРОПУСКАНИЯ УФ-ФИЛЬТРА ПРИ НАНЕСЕНИИ ПЛЕНОК ОКСИДА ГАФНИЯ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ

摘要

This paper provides basic information about the features of manufacturing the interference coatings for the ultraviolet region of the spectrum based on hafnium oxide Ⅱ (HfO_2) using ion assistance. The dependence of the properties of thin HfO_2 films on the conditions of film deposition, i.e. on the condensation rate, the pressure in the vacuum chamber, the temperature of the substrate and the parameters of the ion assist source. The data on the shift of the spectral characteristics of HfO_2 films under the influence of moisture are given.%Приведены основные сведения об особенностях изготовления интерференционных покрытий для ультрафиолетовой области спектра на основе оксида гафния П (HfO_2) с использованием ионного ассистирования. Показана зависимость свойств тонких пленок HfO_2 от условий нанесения пленки, т.е. от скорости конденсации, давления в вакуумной камере, температуры подложки и параметров источника ионного ассистирования. Приведены данные о сдвиге спектральной характеристики пленок HfO_2 под воздействием влаги.