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机译:溅射钽薄膜中残余应力的评估
Univ Edinburgh, Sch Engn, Inst Integrated Micro & Nano Syst, Scottish Microelect Ctr, Alexander Crum Brown Rd, Edinburgh EH9 3FF, Midlothian, Scotland;
Univ Edinburgh, Sch Engn, Inst Integrated Micro & Nano Syst, Scottish Microelect Ctr, Alexander Crum Brown Rd, Edinburgh EH9 3FF, Midlothian, Scotland;
Univ Edinburgh, Sch Engn, Inst Integrated Micro & Nano Syst, Scottish Microelect Ctr, Alexander Crum Brown Rd, Edinburgh EH9 3FF, Midlothian, Scotland;
Tantalum; Sputtering; Residual stress; Annealing; Ion bombardment;
机译:溅射纳米结构α-钽中的可控残余应力
机译:钢上的三极溅射钽涂层的相,残余应力和织构
机译:溅射共掺杂CeO_2薄膜电解质的残余应力相关电导率
机译:脉冲和电感耦合等离子体辅助脉冲溅射沉积的钽氧化物膜的折射率和内应力的独立控制
机译:溅射的铬和铬(x)氮(y)薄膜的微观结构和残余应力的演变。
机译:基于水泡试验技术的残余应力薄膜/基体系统表面和界面力学性能同步表征的理论研究
机译:溅射钽薄膜中残余应力的评估
机译:钢中三极管溅射钽涂层的相,残余应力和织构