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Carrier dynamics of Mg-doped indium nitride

机译:掺镁氮化铟的载流子动力学

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摘要

Recently, we have reported a significant enhancement (>500 times in intensity) in terahertz emission from Mg-doped indium nitride (InN:Mg) films compared to undoped InN. It was found that the intensity of terahertz radiation strongly depends on the background electron density. In this letter, we present the results on ultrafast time-resolved reflectivity measurement employed to investigate the carrier dynamics of InN:Mg. We find that the decay time constant of InN:Mg depends on background electron density in the same way as terahertz radiation does. The spatial redistribution of carriers in diffusion and drift is found to be responsible for the recombination behavior as well as terahertz radiation.
机译:最近,我们报道了与未掺杂的InN相比,掺Mg的氮化铟(InN:Mg)薄膜的太赫兹发射显着增强(强度提高了500倍)。发现太赫兹辐射的强度强烈地取决于背景电子密度。在这封信中,我们介绍了用于研究InN:Mg载流子动力学的超快时间分辨反射率测量的结果。我们发现,InN:Mg的衰减时间常数与太赫兹辐射一样,也取决于背景电子密度。发现载流子在扩散和漂移中的空间重新分布是重组行为以及太赫兹辐射的原因。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2010年第6期|P.062110-062110-3|共3页
  • 作者单位

    Department of Photonics and Institute of Electro-Optical Engineering, National Chiao Tung University, Hsinchu 30010, Taiwan;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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