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机译:减少Al2O3 / AlOx / Al2O3 /石墨烯电荷陷阱存储器件中的电子反注入
Quantum-functional Semiconductor Research Center, Dongguk University-Seoul, Seoul 100-715, Korea;
机译:减少了Al_2O_3 / AlO_x / Al_2O_3 /石墨烯电荷陷阱存储器件中的电子反注入
机译:栅极功函数对Al_2O_3HfO_x / Al_2O_3 /石墨烯电荷陷阱存储设备中存储特性的影响
机译:具有大存储器窗口的完全透明的石墨烯充电 - 陷阱存储器和长期保留
机译:新型涂料的热腐蚀;磁控溅射离子镀CrAlYN,HIPIMS沉积的TiAlYN / CrN + Alox的Hauzer涂层和由双磁控溅射在750℃50hrs测试中沉积的Hauzer的Al2O3覆盖层的TiAlN
机译:用于高k电介质和存储器应用的原子层沉积Al2O3和TiO2
机译:利用Al2O3势垒层提高SAW器件Al2O3 / Pt / ZnO / Al2O3薄膜电极的高温稳定性。
机译:超薄电子突触具有高时/空间均匀性和Al2O3 /石墨烯量子点/ Al2O3夹层结构,用于神经形态计算