机译:通过热线化学气相沉积制备的隐含开路电压为738 mV的Poly-Si / SiO_x / c-Si钝化接触
Forschungszentrum Julich, IEK 5 Photovolta, Leo Brandt Str, D-52425 Julich, Germany|Sun Yat Sen Univ, Guangdong Prov Key Lab Photovolta Technol, Inst Solar Energy Syst, Guangzhou 510006, Guangdong, Peoples R China;
Forschungszentrum Julich, IEK 5 Photovolta, Leo Brandt Str, D-52425 Julich, Germany;
Int Solar Energy Res Ctr ISC Konstanz, Rudolf Diesel Str 15, D-78467 Constance, Germany;
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Sun Yat Sen Univ, Guangdong Prov Key Lab Photovolta Technol, Inst Solar Energy Syst, Guangzhou 510006, Guangdong, Peoples R China;
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机译:具有734 MV隐含的开路电压的多Si / SiOx / C-Si钝化接触式太阳能电池中的钝化质量控制
机译:在原位掺杂的硅薄膜通过热线化学气相沉积钝化触点,具有42nm / min的高沉积速率
机译:与磷掺杂的多晶硅氮化物钝化接触,具有优异的隐含开口电压为745 mV及其在23.88%效率拓扑太阳能电池中的应用
机译:通过低压化学气相沉积钝化触点的原位磷掺杂多Si
机译:激光电离和电子电离在硅烷-氨气混合物热线化学气相沉积工艺中的沉积化学中的应用。
机译:热丝化学气相沉积法对NiSi / SiC核壳纳米线的固态有限成核
机译:通过降低多Si沉积温度,增加具有钝化触点的太阳能电池中的光产生电流