机译:配置相互作用对激发自电离截面的影响
T. D. Lee Physics Laboratory, Department of Nuclear Science, Fudan University, Shanghai 200433, China;
机译:构型相互作用对激发电离截面的影响
机译:100 keV质子撞击激发氦的自电离态:II。励磁截面和励磁机理
机译:在低入射能量下k对电子的激发的微分截面:II。激励4p(5)5p,4p(5)4d和4p(5)6s配置
机译:电子撞击碱原子的激发 - 自动化横截面。
机译:内部能量选择光子的形成和反应:I.阈值光电子能谱研究的共振自电离。二。内部能量选择离子的电荷和质子转移反应的横截面。
机译:基态对钠和钾的np激发的电子冲击截面
机译:弹丸相互作用在三重微分截面中对氦激发电离的作用