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【2h】

H4 K20me0 marks post-replicative chromatin and recruits theTONSL-MMS22L DNA repair complex

机译：H4 K20me0标记复制后的染色质并募集TONSL-MMS22L DNA修复复合物

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期刊名称 other
作者
Giulia Saredi; Hongda Huang; Colin M. Hammond; Constance Alabert; Simon Bekker-Jensen; Ignasi Forne; Nazaret Reverón-Gómez; Benjamin M. Foster; Lucie Mlejnkova; Till Bartke; Petr Cejka; Niels Mailand; Axel Imhof; Dinshaw J. Patel; Anja Groth;
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作者单位

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年(卷),期 -1(534),7609
年度 -1
页码 714–718
总页数 27
原文格式 PDF
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1. H4K20me0 marks post-replicative chromatin and recruits the TONSL-MMS22L DNA repair complex [J] . Saredi Giulia, Huang Hongda, Hammond Colin M., Nature . 2016,第7609期

机译：H4K20me0标记复制后的染色质并募集TONSL-MMS22L DNA修复复合体
2. H4K20me2 distinguishes pre-replicative from post-replicative chromatin to appropriately direct DNA repair pathway choice by 53BP1-RIF1-MAD2L2 [J] . Simonetta Marco, de Krijger Inge, Serrat Judit, Cell cycle . 2018,第1期

机译：H4K20ME2将预复制染色质的预复制性与53BP1-RIF1-MAD2L2区分为适当的DNA修复途径选择。
3. MOF and H4 K16 Acetylation Play Important Roles in DNA Damage Repair by Modulating Recruitment of DNA Damage Repair Protein Mdc1 [J] . Xiangzhi Li, Callie Ann Sprunger Corsa, Patricia W. Pan, Molecular and Cellular Biology . 2010,第22期

机译：MOF和H4 K16乙酰化通过调节DNA损伤修复蛋白Mdc1的募集在DNA损伤修复中发挥重要作用
4. DNA-MEDIATED REF1 CONFORMATIONAL CHANGES: POSSIBLE MECHANISM FOR PROTEIN RECRUITMENT IN BASE EXCISION REPAIR (BER) PATHWAY [C] . Eizadora Yu, Sara Gaucher, Kenneth Sale, ASMS Conference on Mass Spectrometry and Allied Topics . 2008

机译：DNA介导的REF1一致性变化：基础切除修复（BER）途径中蛋白质招募的可能机制
5. Organometallic photonucleases. I. DNA cleavage by the photolysis of cyclopentadienyl metal complexes: Mechanistic studies and sequence selectivity of strand scission by CpW(CO)3CH3. II. Footprinting of chromatin structure and chromatin remodeling by SWI/SNF utilizing CpW(CO)3CH3. III. Dual mechanisms of DNA damage by MoX(eta3-allyl)(CO)3(phen) complexes. [D] . Downs, Jennifer. 2005

机译：有机金属光核酸酶。 I.通过环戊二烯基金属配合物的光解来切割DNA：通过CpW（CO）3CH3进行断裂的机理研究和序列选择性。二。 SWI / SNF利用CpW（CO）3CH3进行染色质结构足迹测定和染色质重塑。三， MoX（eta3-烯丙基）（CO）3（phen）复合物对DNA的双重破坏机制。
6. H4K20me2 distinguishes pre-replicative from post-replicative chromatin to appropriately direct DNA repair pathway choice by 53BP1-RIF1-MAD2L2 [O] . Marco Simonetta, Inge de Krijger, Judit Serrat, 2018

机译：H4K20me2区分复制前染色质和复制后染色质以通过53BP1-RIF1-MAD2L2适当指导DNA修复途径的选择
7. H4 K20me0 marks post-replicative chromatin and recruits the TONSL-MMS22L DNA repair complex [O] . Saredi, G, Huang, H, Hammond, CH, 2016

机译：H4 K20me0标记复制后染色质并募集TONsL-mms22L DNa修复复合物

H4 K20me0 marks post-replicative chromatin and recruits theTONSL-MMS22L DNA repair complex

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