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Controlling Topological States in Topological/NormalInsulator Heterostructures

机译:在拓扑/普通中控制拓扑状态绝缘子异质结构

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摘要

We have performed a systematic investigation of the nature of the nontrivial interface states in topologicalormal insulator (TI/NI) heterostructures. On the basis of first principles and a recently developed scheme to construct ab initio effective Hamiltonian matrices from density functional theory calculations, we studied systems of realistic sizes with high accuracy and control over the relevant parameters such as TI and NI band alignment, NI gap, and spin–orbit coupling strength. Our results for IV–VI compounds show the interface gap tunability by appropriately controlling the NI thickness, which can be explored for device design. Also, we verified the preservation of an in-plane spin texture in the interface-gaped topological states.
机译:我们已经对拓扑/正常绝缘体(TI / NI)异质结构中非平凡界面态的性质进行了系统的研究。基于第一原理和最近开发的从密度泛函理论计算构建从头算起的有效哈密顿矩阵的方案,我们研究了具有高精度的实际尺寸系统,并控制了相关参数,例如TI和NI谱带对准,NI间隙,和自旋轨道耦合强度。我们对IV-VI化合物的结果通过适当控制NI的厚度显示了界面间隙的可调性,可以在器件设计中进行探索。同样,我们验证了界面张开的拓扑状态下平面内自旋纹理的保留。

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