首页> 美国卫生研究院文献>Scientific Reports >A novel semiconductor compatible path for nano-graphene synthesis using CBr4 precursor and Ga catalyst
【2h】

A novel semiconductor compatible path for nano-graphene synthesis using CBr4 precursor and Ga catalyst

机译:使用CBr4前体和Ga催化剂合成纳米石墨烯的新型半导体兼容途径

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

We propose a novel semiconductor compatible path for nano-graphene synthesis using precursors containing C-Br bonding and liquid catalyst. The unique combination of CBr4 as precursor and Ga as catalyst leads to efficient C precipitation at a synthesis temperature of 200°C or lower. The non-wetting nature of liquid Ga on tested substrates limits nano-scale graphene to form on Ga droplets and substrate surfaces at low synthesis temperatures of T ≤ 450°C and at droplet/substrate interfaces by C diffusion via droplet edges when T ≥ 400°C. Good quality interface nano-graphene is demonstrated and the quality can be further improved by optimization of synthesis conditions and proper selection of substrate type and orientation. The proposed method provides a scalable and transfer-free route to synthesize graphene/semiconductor heterostructures, graphene quantum dots as well as patterned graphene nano-structures at a medium temperature range of 400–700°C suitable for most important elementary and compound semiconductors.
机译:我们提出了一种新的半导体兼容途径,用于使用包含C-Br键和液体催化剂的前体来合成纳米石墨烯。作为前体的CBr4和作为催化剂的Ga的独特组合可在200°C或更低的合成温度下有效地沉淀C。在T≤450°C的低合成温度下以及当T≥400时,C会通过液滴边缘通过C扩散在Ga液滴和基底表面上形成,液体Ga在被测基底上的非润湿性质限制了纳米级石墨烯的形成。 ℃。证明了高质量的界面纳米石墨烯,可以通过优化合成条件和适当选择底物类型和方向来进一步提高质量。所提出的方法提供了一种可扩展且无转移的途径,可以在400-700°C的中等温度范围内合成石墨烯/半导体异质结构,石墨烯量子点以及带图案的石墨烯纳米结构,适用于最重要的元素半导体和化合物半导体。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号