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Topological Optimization of Phononic Crystal Thin Plate by a Genetic Algorithm

机译:遗传算法优化声子晶体薄板的拓扑

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摘要

Genetic algorithm (GA) is used for the topological optimization of phononic crystal thin plate composed of aluminum and epoxy resin. Plane wave expansion (PWE) method is used for calculations of band gaps. Fourier displacement property is used to calculate the structure function in PWE. The crossover rate and the mutation rate are calculated according to the adaptive GA method. Results indicate that filling rates, symmetry, polymerization degree and material parameters are key factors for design of topological configurations. The relations between the key factors and different topologies are studied in detail.
机译:遗传算法(GA)用于由铝和环氧树脂组成的声子晶体薄板的拓扑优化。平面波扩展(PWE)方法用于计算带隙。傅立叶位移特性用于计算PWE中的结构函数。交叉率和变异率是根据自适应遗传算法计算的。结果表明,填充率,对称性,聚合度和材料参数是设计拓扑结构的关键因素。详细研究了关键因素与不同拓扑之间的关系。

著录项

  • 期刊名称 Scientific Reports
  • 作者

    X. K. Han; Z. Zhang;

  • 作者单位
  • 年(卷),期 -1(9),-1
  • 年度 -1
  • 页码 8331
  • 总页数 13
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种
  • 中图分类
  • 关键词

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