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Controlling three-dimensional optical fields via inverse Mie scattering

机译:通过逆Mie散射控制三维光场

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摘要

Controlling the propagation of optical fields in three dimensions using arrays of discrete dielectric scatterers is an active area of research. These arrays can create optical elements with functionalities unrealizable in conventional optics. Here, we present an inverse design method based on the inverse Mie scattering problem for producing three-dimensional optical field patterns. Using this method, we demonstrate a device that focuses 1.55-μm light into a depth-variant discrete helical pattern. The reported device is fabricated using two-photon lithography and has a footprint of 144 μm by 144 μm, the largest of any inverse-designed photonic structure to date. This inverse design method constitutes an important step toward designer free-space optics, where unique optical elements are produced for user-specified functionalities.
机译:使用离散介电散射体的阵列来控制三维光场的传播是研究的活跃领域。这些阵列可以创建具有传统光学器件无法实现的功能的光学元件。在这里,我们提出了一种基于逆Mie散射问题的逆设计方法,用于产生三维光场图案。使用这种方法,我们演示了一种将1.55μm的光聚焦成深度变化的离散螺旋图案的设备。报告的设备使用双光子光刻技术制造,占地面积为144μmx 144μm,是迄今为止所有反向设计的光子结构中最大的。这种逆向设计方法构成了向设计师自由空间光学器件迈出的重要一步,在自由空间光学器件中,生产了独特的光学元件以实现用户指定的功能。

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