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Li+共掺杂GdTaO4:Eu3+发光增强效应的研究

             

摘要

测量了不同浓度Li+共掺杂下GdTaO4:Eu3+荧光粉材料的X射线衍射谱(XRD)、发射光谱以及红外透射谱,并应用Judd-Ofelt理论,由发射光谱得到Eu3+的光谱跃迁强度参数Ω2.发现Li+共掺杂有助于提高GdTaO4:Eu3+的发光强度,当x=0.06和0.10时,612 nm处的发光强度分别被提升了1.7倍和1.5倍.发光增加的原因是因为Li+的助熔剂效应有效提高了GdTaO4材料的结品性能,并抑制了Cd2O3和Ta2O5杂相的产生,而非所推测的掺Li+引起了配位场对称性降低,从而导致宇称禁戒的放宽.此时Gd0.92-xLixTaO4:Eu3+0.08材料不仪结晶性能较好,而且Gd2O3和Ta2O5杂相也相对较少,故而发光增强最为明显.

著录项

  • 来源
    《光谱学与光谱分析 》 |2010年第9期|2317-2320|共4页
  • 作者单位

    同济大学波耳固体物理研究所,上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海,200092;

    同济大学波耳固体物理研究所,上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海,200092;

    同济大学波耳固体物理研究所,上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海,200092;

    同济大学波耳固体物理研究所,上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海,200092;

    同济大学波耳固体物理研究所,上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海,200092;

    同济大学波耳固体物理研究所,上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海,200092;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 光学性质 ;
  • 关键词

    GdTaO4:Eu3+; Li+共掺杂; Judd-Ofelt理论 ; 助熔剂效应;

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