Experimental Study of the Influence of Process Pressure and Gas Composition on GaAs Etching Characteristics in Cl2/BCl3-Based Inductively Coupled Plasma

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• 来源
  《等离子体科学和技术（英文版）》 |2011年第2期|223-229|共7页
• 作者

  D. S. RAWAL; B. K. SEHGAL; R. MURALIDHARAN; H. K. MALIK;

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• 作者单位

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• 收录信息 中国科学引文数据库(CSCD);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
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