紫外写入光纤光栅用亚μm相位掩模板制作误差容限分析

摘要

本文采用电磁波标量衍射理论研究了紫外写入光纤光栅用亚μｍ相位掩模的近场衍射特性，并据此得出了零级衍射抑制的条件，采用数值模拟方法研究了相位掩模制作误差对零级衍射抑制的影响。分析表明，为使零级衍射效率小于５％，相位掩模的刻槽深度和占空比制作误差必须控制在｜Δｈ｜＜３８ｎｍ和｜Δｆ｜＜０．１１的范围内。