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谢常青;
中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室;
衍射光学元件; 先进光刻; 标准CMOS工艺; GDSII数据处理; 图形转移;
机译:微光学激光技术。 第1部分。衍射光学元件和具有幅度传输的光掩模的制造
机译:制造阶段衍射光学元件的添加剂技术
机译:优化的轮廓蒙版技术对制造分段连续浮雕衍射光学元件中的误差的敏感性
机译:用于在球形表面上制造微光学和衍射元件的激光系统和技术
机译:通过电子束光刻技术制造衍射光学元件。
机译:高效耐制造误差的平面太赫兹衍射光学元件的计算设计框架
机译:五光束全息光刻技术,可使用相位可调衍射光学元件同时制造三维光子晶体模板和线缺陷。
机译:二元光学技术:多级衍射光学元件衍射效率的理论限制。
机译:制备衍射光学元件的方法,以及用于制造衍射光学元件的模具,以及由制造衍射光学元件的方法和光学系统制造的衍射光学元件,以及应用该衍射方法的光学装置和装置,
机译:衍射光学元件,配备有衍射光学元件的光学系统,衍射光学元件的制造,曝光设备(包括配备有衍射光学元件的光学系统)和通过使用曝光设备制造的设备
机译:光辐照装置,光辐照装置的制造方法,衍射光学元件多聚体组件,衍射光学元件多聚体组件的制造方法,衍射光学元件以及衍射光学元件的制造方法
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