有机蒙脱土的制备及应用研究

摘要

采用正交实验法以十六烷基三甲基溴化铵(CTMAB)为插层剂,制备了有机蒙脱土,优化条件为:固液比5％,反应温度90℃,反应时间2h.红外光谱表明CTMAB插层到蒙脱土片层中,XRD显示晶层间距增大,TG-DSC-DTA表明在335.5℃有明显放热峰,TEM表征片层结构被解离.将有机蒙脱土添加到环氧树脂中,较大地提高了环氧树脂的力学性能.